A Semicorex Vertical Silicon Boat a félvezető gyártási folyamatok kritikus összetevője. A Semicorex egyedi, függőleges szilícium csónakot szállít páratlan minőséggel és pontossággal, a félvezetőipar szigorú követelményeinek megfelelően.*
A Semicorex Vertical Silicon Boat kulcsfontosságú alkatrész, különösen magas hőmérsékletű környezetben az ostyafeldolgozáshoz. A szilícium ostyák hőkezelési és diffúziós folyamatok során történő függőleges tartására tervezett termék optimális termikus egyenletességet, precíz kezelést és kiváló stabilitást biztosít, amelyek létfontosságúak az egyenletes lapkaminőség eléréséhez.
Főbb alkalmazások a félvezető folyamatokban
A függőleges szilíciumcsónakot elsősorban olyan eljárásokban használják, mint az oxidáció, lágyítás, diffúzió és kémiai gőzleválasztás (CVD). E lépések során a szilíciumlapkák egyenletes hőnek és reaktív gázoknak való kitettsége döntő fontosságú a kritikus rétegek és struktúrák kialakításához a lapka felületén. Az ostyák függőleges helyzetben való biztonságos rögzítésével a szilícium csónak egyenletes gázáramlást és hőmérséklet-eloszlást tesz lehetővé az összes ostya között, csökkentve a hibák kockázatát és javítva az általános hozamot.
Oxidáció és diffúzió:A Vertical Silicon Boat kulcsfontosságú szerepet játszik a magas hőmérsékletű oxidációs és diffúziós folyamatokban. Ezek a lépések megkövetelik a gázáramlás és a hőmérséklet pontos szabályozását, hogy oxidrétegeket és szennyeződéseket tartalmazó szeleteket képezzenek az elektromos vezetőképesség szempontjából. A hajó kialakítása egyenletes expozíciót biztosít, és minimálisra csökkenti a szennyeződés kockázatát.
Lágyítás:Az izzítási folyamatok során az ostyákat szabályozott fűtési és hűtési ciklusoknak vetik alá, hogy enyhítsék a stresszt, kijavítsák a sérüléseket vagy aktiválják az adalékanyagokat. A szilícium csónak termikus stabilitása és kiváló mechanikai szilárdsága segít megőrizni az ostya integritását ezekben az igényes ciklusokban.
CVD és ALD folyamatok:Az olyan eljárásokhoz, mint a kémiai gőzleválasztás (CVD) és az atomos rétegleválasztás (ALD), amelyek során vékony filmek képződnek az ostya felületén, a függőleges szilíciumcsónak stabil platformot biztosít az egyenletes anyaglerakáshoz. Nagy tisztaságú összetétele minimálisra csökkenti a szemcsés szennyeződést, ami elengedhetetlen a hibamentes rétegek eléréséhez.
Jellemzők és előnyök
A Vertical Silicon Boat számos olyan funkciót kínál, amelyek nélkülözhetetlenek a fejlett félvezetőgyártásban:
A Semicorex Vertical Silicon Boat a modern félvezetőgyártás sarokköve, amely páratlan teljesítményt kínál a magas hőmérsékletű szeletfeldolgozási alkalmazásokban. Robusztus kialakítása, nagy tisztaságú anyagai és kiváló termikus stabilitása preferált választássá teszik azokat a gyártók számára, akik működésük során precizitást és hatékonyságot kívánnak elérni. Az ostyák kezelésének és kezelésének optimalizálásával a Vertical Silicon Boat kulcsfontosságú szerepet játszik abban, hogy lehetővé tegye a mai technológiai innovációkat meghajtó, élvonalbeli félvezető eszközök gyártását.