A Semicorex CVD SiC Coated Graphite Susceptor egy speciális eszköz, amelyet félvezető lapkák kezelésére és feldolgozására használnak. A szuszceptor döntő szerepet játszik a vékony filmek, epitaxiális rétegek és egyéb bevonatok növekedésének elősegítésében a szubsztrátumokon, a hőmérséklet és az anyagtulajdonságok pontos szabályozásával. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
A CVD SiC bevonatú grafit szuszceptor egy aprólékosan megtervezett alkatrész, amelyet úgy terveztek, hogy optimális termikus környezetet teremtsen vékony filmek és bevonatok félvezető lapkákra vagy más hordozóanyagokra történő szabályozott lerakásához. Ez egy kritikus elem a CVD reaktorban, hőforrásként és platformként is szolgál a szubsztrátumok megtartásához és elhelyezéséhez a leválasztási folyamat során.
Előnyök:
Precíz leválasztás: A CVD SiC bevonatú grafit szuszceptor lehetővé teszi a vékony filmek és bevonatok szabályozott és precíz leválasztását, ami kiváló minőségű és reprodukálható eredményeket eredményez.
Csökkentett szennyeződés: A SiC bevonat minimálisra csökkenti magából a szuszceptorból származó szennyeződés kockázatát, biztosítva a lerakott anyagok tisztaságát.
Hosszú élettartam és tartósság: A SiC bevonat növeli a szuszceptor oxidációval és kémiai reakciókkal szembeni ellenállását, hozzájárulva a hosszú élettartamhoz és a megbízhatósághoz hosszabb használat során.