A Semicorex a kiváló minőségű MOCVD Cover Star Disc Plate neves gyártója és szállítója az ostya epitaxiához. Termékünket kifejezetten a félvezetőipar igényeinek kielégítésére fejlesztettük ki, különös tekintettel az ostya chip epitaxiális rétegének növelésére. A szuszceptorunkat a MOCVD középső lemezeként használják fogaskerék vagy gyűrű alakú kialakítással. A termék kiválóan ellenáll a magas hőnek és a korróziónak, így ideális extrém környezetben való használatra.
A MOCVD Cover Star Disc Plate for Wafer Epitaxy egy kiváló termék, amely minden felületen biztosítja a bevonatot, elkerülve ezzel a leválást. Magas hőmérsékletű oxidációállósággal rendelkezik, amely akár 1600°C-ig magas hőmérsékleten is biztosítja a stabilitást. A termék nagy tisztaságú CVD kémiai gőzleválasztással, magas hőmérsékletű klórozási körülmények között készül. Sűrű, finom részecskéket tartalmazó felülete rendkívül ellenálló a sav, lúg, só és szerves reagensek okozta korrózióval szemben.
A Wafer Epitaxy-hoz készült MOCVD Cover Star Disc lemezünk garantálja a legjobb lamináris gázáramlási mintát, biztosítva a termikus profil egyenletességét. Megakadályozza a szennyeződések vagy a szennyeződések diffúzióját, biztosítva a jó minőségű epitaxiális növekedést az ostya chipen. Termékünk versenyképes árú, így sok vásárló számára elérhető. Számos európai és amerikai piacot lefedünk, és csapatunk elkötelezett a kiváló ügyfélszolgálat és támogatás iránt. Arra törekszünk, hogy az Ön hosszú távú partnerévé váljunk a jó minőségű és megbízható MOCVD Cover Star Disc lemez kínálatában a Wafer Epitaxy számára.
A MOCVD Cover Star Disc Plate paraméterei az ostya epitaxiához
A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi |
||
SiC-CVD tulajdonságai |
||
Kristályszerkezet |
FCC β fázis |
|
Sűrűség |
g/cm³ |
3.21 |
Keménység |
Vickers keménység |
2500 |
Szemcseméret |
μm |
2~10 |
Kémiai tisztaság |
% |
99.99995 |
Hőkapacitás |
J kg-1 K-1 |
640 |
Szublimációs hőmérséklet |
℃ |
2700 |
Felexurális Erő |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Young's Modulus |
Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃) |
430 |
Hőtágulás (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Hővezetőképesség |
(W/mK) |
300 |
A MOCVD Cover Star Disc Plate jellemzői az ostya epitaxiához
- Kerülje a leválást, és gondoskodjon a bevonatról minden felületen
Magas hőmérsékletű oxidációállóság: Stabil magas hőmérsékleten 1600°C-ig
Nagy tisztaságú: CVD kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.
Korrózióállóság: nagy keménység, sűrű felület és finom részecskék.
Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
- A legjobb lamináris gázáramlási minta elérése
- Garantálja a hőprofil egyenletességét
- Kerülje el a szennyeződést vagy a szennyeződések diffúzióját