GaN-on-Si Epi Wafer Chuck

A Semicorex GaN-on-Si Epi Wafer Chuck a félvezetőgyártás szerves részét képezi, lehetővé téve a stabil és megbízható támogatást olyan kritikus folyamatok során, mint a leválasztás, maratás és litográfia. A GaN-on-Si Epi Wafer Chuck hatékony hőelvezetést biztosít, egyenletes hőmérsékleteloszlást tartva az ostyán, hogy megakadályozza a termikus gradienseket, amelyek hibákat okozhatnak. A GaN-on-Si Epi Wafer Chuck különféle méretekben és konfigurációkban áll rendelkezésre, hogy megfeleljen a különböző szeletméreteknek és feldolgozási követelményeknek, rugalmasságot kínálva a különböző félvezető-gyártási igényekhez.

Alkalmazások:

Epitaxiális növekedés: A GaN-on-Si Epi Wafer Chuck stabil platformot biztosít a kiváló minőségű GaN rétegek szilíciumhordozókon történő növekedéséhez, a GaN-on-Si Epi Wafer Chuck pedig elengedhetetlen a nagy teljesítményű elektronikus és optoelektronikai eszközökhöz.

Maratás és lerakás: Megkönnyíti az egyenletes anyageltávolítást vagy lerakást, kulcsfontosságú az eszközök kívánt szerkezeti és elektromos tulajdonságainak eléréséhez.

A GaN-on-Si Epi Wafer Chuck nélkülözhetetlen eszköz a félvezetőgyártók számára, akik élvonalbeli GaN-alapú eszközöket szeretnének gyártani, páratlan teljesítményt nyújtva a pontosság, a stabilitás és a tartósság terén.