A Semicorex ostyatartó kritikus eleme a félvezetőgyártásnak, és kulcsszerepet játszik az ostyák pontos és hatékony kezelésében az epitaxiás folyamat során. Szilárdan elkötelezettek vagyunk amellett, hogy a legjobb minőségű termékeket kínáljuk versenyképes áron, és alig várjuk, hogy vállalkozást indíthassunk Önnel.*
A Semicorex ostyatartót zseniálisan megtervezték egy nagy tisztaságú grafitból készült maggal, és aprólékosan szilícium-karbiddal (SiC) vonták be, hogy megfeleljen a Liquid Phase Epitaxy (LPE) berendezések szigorú követelményeinek. Felépítése és anyagválasztása rendkívül fontos a lapkák integritásának megőrzéséhez a félvezetőgyártásban rejlő magas hőmérsékletű folyamatok során.
A SiC bevonatú grafit ostyatartó kiemelkedő kopásállóságot mutat, ami létfontosságú az ostya optimális kezeléséhez szükséges precíz méretek és felületminőség megőrzéséhez. Az LPE eljárásoknál az ostyatartó felületének integritása a legfontosabb, mivel minden leromlás vagy egyenetlenség az ostya hibáit eredményezheti, ami alacsonyabb hozamhoz és megnövekedett hulladékhoz vezethet. A SiC bevonat biztosítja, hogy az ostyatartó sima, stabil felületet tartson fenn ismételt ciklusokon keresztül, hozzájárulva az epitaxiás folyamat általános megbízhatóságához és konzisztenciájához.
Ezenkívül a SiC bevonat javítja az ostyatartó hőteljesítményét. A szilícium-karbid magas hővezető képessége egyenletes hőeloszlást biztosít az ostyán az epitaxiás folyamat során, ami kulcsfontosságú a hőgradiensek megelőzésében, amelyek az ostyák vetemedését vagy megrepedését okozhatják. Ez garantálja, hogy a végtermékek megfelelnek a félvezetőgyártásban megkövetelt szigorú minőségi előírásoknak. A grafit termikus tulajdonságainak és a SiC bevonat további előnyeinek kombinációja olyan ostyatartót hoz létre, amely képes ellenállni a legnagyobb kihívást jelentő termikus környezeteknek.
Az ostyatartó kialakítását az LPE berendezésekben való alkalmazásra optimalizálták. Az ostyatartót pontosan megmunkálták, hogy az ostyákat biztonságosan elhelyezze, minimálisra csökkentve a mozgás vagy az elmozdulás kockázatát az epitaxia során. Ez a pontosság kulcsfontosságú, mivel a lapka helyzetének legkisebb eltolódása is egyenetlen lerakódáshoz vezethet, ami befolyásolja a készülő félvezető eszközök teljesítményét. A SiC bevonatú grafit ostyatartó biztosítja a szükséges stabilitást, biztosítva, hogy az ostyák a teljes folyamat során a megfelelő helyzetben maradjanak.
LEP szerkezet, LPE-ből