SiC hordó szilícium epitaxiához

A Semicorex SiC hordó a Silicon Epitaxy számára egy olyan konstrukció, amely megfelel az alkalmazott anyagok és LPE egységek szigorú követelményeinek. A precízen és innovációval kialakított hordó alakú szuszceptor kiváló minőségű SiC bevonatú grafitból készül, amely kivételes teljesítményt és tartósságot biztosít a szilícium epitaxiás alkalmazásokban. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex SiC hordó Silicon Epitaxy-hoz szilícium-karbiddal (SiC) bevont grafitanyagból készült. Ez az egyedülálló konstrukció kiváló ellenállást biztosít a hősokkokkal és a kémiai lebomlásokkal szemben, meghosszabbítja a szuszceptor élettartamát és fenntartja a folyamat megbízhatóságát.

A SiC Barrel For Silicon Epitaxy fejlett SiC bevonata kiváló hővezető képességet és hőeloszlást biztosít, elősegítve az egyenletes hőmérsékleti profilokat a szuszceptorban. Ez javítja a folyamatszabályozást, minimalizálja a termikus gradienseket, és biztosítja a konzisztens epitaxiális rétegnövekedést, ami kiváló minőségű szilícium filmeket eredményez kivételes egyenletességgel és tisztasággal.

A szilícium epitaxiához készült SiC hordónk testreszabható, hogy megfeleljen az egyedi követelményeknek és preferenciáknak. A méretbeállításoktól a bevonatvastagság-változtatásokig rugalmas tervezést kínálunk a különféle folyamatparaméterekhez való alkalmazkodás és a teljesítmény optimalizálása érdekében az egyes alkalmazásokhoz.

A szilícium epitaxiához készült SiC hordó megbízhatóságot és hosszú élettartamot kínál, csökkentve a gyakori cserékkel járó állásidőt és karbantartási költségeket. Robusztus felépítése és kivételes teljesítménye hozzájárul a folyamatok hatékonyságának növeléséhez, végső soron növelve a termelékenységet és a félvezetőgyártási műveletek költséghatékonyságát.