SiC szuszceptor MOCVD-hez

A Semicorex a SiC Susceptor for MOCVD vezető gyártója és szállítója. Termékünket kifejezetten a félvezetőipar igényeinek kielégítésére fejlesztettük ki az ostya chip epitaxiális rétegének növelésében. A terméket a MOCVD középső lemezeként használják fogaskerék vagy gyűrű alakú kialakítással. Magas hő- és korrózióállósággal rendelkezik, így ideális extrém környezetben való használatra.

Kérdés küldése

termékleírás

A SiC Susceptor for MOCVD egy kiváló minőségű termék, amely számos kulcsfontosságú tulajdonsággal rendelkezik. Biztosítja minden felületen a bevonatot, elkerülve a leválást, és magas hőmérsékletű oxidációval szemben ellenálló, stabilitást biztosít magas, akár 1600°C-os hőmérsékleten is. A termék nagy tisztaságú CVD kémiai gőzleválasztással, magas hőmérsékletű klórozási körülmények között készül. Sűrű, finom részecskéket tartalmazó felülete rendkívül ellenálló a sav, lúg, só és szerves reagensek okozta korrózióval szemben.
A MOCVD-hez készült SiC szuszceptorunkat úgy tervezték, hogy garantálja a legjobb lamináris gázáramlási mintát, biztosítva a hőprofil egyenletességét. Megakadályozza a szennyeződések vagy a szennyeződések diffúzióját, biztosítva a jó minőségű epitaxiális növekedést az ostya chipen.

A SiC Susceptor paraméterei MOCVD-hez

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályszerkezet	FCC β fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	μm	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezetőképesség	(W/mK)	300

A SiC Susceptor jellemzői MOCVD-hez

- Kerülje a leválást, és gondoskodjon a bevonatról minden felületen
Magas hőmérsékletű oxidációállóság: Stabil magas hőmérsékleten 1600°C-ig
Nagy tisztaságú: CVD kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.
Korrózióállóság: nagy keménység, sűrű felület és finom részecskék.
Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
- A legjobb lamináris gázáramlási minta elérése
- Garantálja a hőprofil egyenletességét
- Kerülje el a szennyeződést vagy a szennyeződések diffúzióját