Az izosztatikus préselési technológia az izosztatikus grafit gyártása során kritikus folyamat, amely nagymértékben meghatározza a végtermék teljesítményét. Mint ilyen, az izosztatikus grafitgyártás átfogó kutatása és optimalizálása továbbra is alapvető fókuszpont az iparban.
Olvass továbbA szénalapú anyagok, mint például a grafit, szénszálak és szén/szén (C/C) kompozitok nagy fajlagos szilárdságukról, nagy fajlagos modulusukról és kiváló termikus tulajdonságaikról ismertek, így a magas hőmérsékletű alkalmazások széles skálájára alkalmasak. . Ezeket az anyagokat széles körben használ......
Olvass továbbA gallium-nitrid (GaN) a félvezető technológia fontos anyaga, amely kivételes elektronikus és optikai tulajdonságairól ismert. A GaN, mint széles sávú félvezető sávszélességű energiája körülbelül 3,4 eV, így ideális nagy teljesítményű és nagyfrekvenciás alkalmazásokhoz.
Olvass továbbA szilícium-karbid (SiC) kristálynövesztő kemencék jelentik a szilícium-karbid lapkagyártás sarokkövét. Miközben hasonlóak a hagyományos szilíciumkristály növesztőkemencékhez, a SiC kemencék egyedi kihívásokkal néznek szembe az anyag szélsőséges növekedési körülményei és bonyolult hibaképző mechaniz......
Olvass továbbA grafit létfontosságú a kivételes hő- és elektromos tulajdonságaikról ismert szilícium-karbid (SiC) félvezetők előállításában. Ez teszi a SiC-t ideálissá nagy teljesítményű, magas hőmérsékletű és nagyfrekvenciás alkalmazásokhoz. A SiC-félvezetőgyártásban a grafitot általában tégelyekhez, fűtőtestek......
Olvass tovább