A Semicorex Graphite Thermal Field az élvonalbeli anyagtudományt a kristálynövekedési folyamatok mélyreható megértésével ötvözi, és olyan innovatív megoldást kínál, amely képessé teszi a félvezetőipart a teljesítmény, a hatékonyság és a költséghatékonyság új szintjeire.**
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon nélkülözhetetlen eszköz az epitaxia világában, robusztus megoldást nyújtva a magas hőmérséklet, a reaktív gázok és a szigorú tisztasági követelmények által támasztott kihívásokra.**
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex CVD TaC Coating Cover kritikus technológiává vált az epitaxiás reaktorok igényes környezetében, amelyet magas hőmérséklet, reaktív gázok és szigorú tisztasági követelmények jellemeznek, ezért robusztus anyagokra van szükség az egyenletes kristálynövekedés biztosításához és a nem kívánt reakciók megelőzéséhez.**
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex Graphite Single Silicon Pulling Tools ismeretlen hősökként bukkan fel a kristálynövesztő kemencék tüzes tégelyében, ahol a hőmérséklet szárnyal, és a precizitás uralkodik. Figyelemre méltó tulajdonságaik, amelyeket az innovatív gyártás során csiszoltak, elengedhetetlenné teszik a hibátlan egykristályos szilícium létrehozásához.**
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex TaC bevonatvezető gyűrű a fém-szerves kémiai gőzleválasztásos (MOCVD) berendezések legfontosabb részeként szolgál, biztosítva a prekurzor gázok pontos és stabil szállítását az epitaxiális növekedési folyamat során. A TaC bevonatvezető gyűrű olyan tulajdonságok sorozatát képviseli, amelyek ideálissá teszik a MOCVD reaktorkamrában előforduló szélsőséges körülményeknek való ellenálló képességet.**
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex minőség és innováció iránti elkötelezettsége nyilvánvaló a SiC MOCVD burkolat szegmensében. Megbízható, hatékony és jó minőségű SiC epitaxia lehetővé tételével létfontosságú szerepet játszik a következő generációs félvezető eszközök képességeinek fejlesztésében.**
Olvass továbbKérdés küldése