PSS kezelő hordozó ostyaátvitelhez

A Semicorex PSS Handling Carrier for Wafer Transfer a legigényesebb epitaxiás berendezésekhez készült. Ultratiszta grafit hordozónk ellenáll a kemény környezetnek, a magas hőmérsékletnek és a kemény vegyszeres tisztításnak. A SiC bevonatú hordozó kiváló hőeloszlási tulajdonságokkal, magas hővezető képességgel rendelkezik, és költséghatékony. Termékeinket széles körben használják számos európai és amerikai piacon, és reméljük, hogy hosszú távú partnerei lehetünk Kínában.

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex PSS Handling Carrier ostyaátvitelhez úgy lett kialakítva, hogy megfeleljen az epitaxiális növekedési és ostyakezelési folyamatok magas hőmérsékletű és kemény vegyszeres tisztítási követelményeinek. Ultratiszta grafithordozónk ideális olyan vékonyréteg-lerakódási fázisokhoz, mint a MOCVD, epitaxia szuszceptorok, palacsinta- vagy szatellitplatformok, valamint ostyakezelési folyamatokhoz, például maratáshoz. A SiC bevonatú hordozó kiváló hőeloszlási tulajdonságokkal, magas hővezető képességgel rendelkezik, és költséghatékony.

Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni az ostyaátvitelhez használt PSS-kezelő hordozónkról.

A PSS Handling Carrier paraméterei ostyaátvitelhez

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályszerkezet	FCC β fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	μm	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezetőképesség	(W/mK)	300