RTP SiC bevonathordozó

A Semicorex RTP SiC Coating Carrier kiváló hőállóságot és termikus egyenletességet kínál, így tökéletes megoldást jelent a félvezető lapkák feldolgozásához. Kiváló minőségű SiC bevonatú grafitjával ezt a terméket úgy tervezték, hogy ellenálljon a legkeményebb lerakódási környezetnek az epitaxiális növekedéshez. A magas hővezető képesség és a kiváló hőeloszlási tulajdonságok megbízható teljesítményt biztosítanak RTA, RTP vagy kemény vegyszeres tisztításhoz.

Kérdés küldése

termékleírás

Az RTP SiC bevonathordozónkat úgy tervezték, hogy ellenálljon a lerakódási környezet legkeményebb körülményeinek. Magas hő- és korrózióállóságának köszönhetően az epitaxiás szuszceptorok tökéletes lerakódási környezetnek vannak kitéve az epitaxiális növekedéshez. A finom SiC kristály bevonat a hordozón sima felületet és nagy tartósságot biztosít a vegyszeres tisztítással szemben, míg az anyagot úgy tervezték, hogy megakadályozza a repedéseket és a leválást.
A Semicorexnél a kiváló minőségű, költséghatékony RTP SiC bevonathordozó biztosítására összpontosítunk, kiemelten kezeljük az ügyfelek elégedettségét és költséghatékony megoldásokat kínálunk. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk, kiváló minőségű termékeket szállítva és kivételes ügyfélszolgálattal.
Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni az RTP SiC bevonathordozónkról.

Az RTP SiC Coating Carrier paraméterei

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályos szerkezet	FCC Î² fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	Î¼m	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J·kg-1 ·K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pt kanyar, 1300º)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezető	(W/mK)	300

Az RTP SiC Coating Carrier jellemzői

Nagy tisztaságú SiC bevonatú grafit
Kiváló hőállóság és termikus egyenletesség
Finom SiC kristály bevonat a sima felületért
Nagy tartósság a vegyszeres tisztítással szemben
Az anyagot úgy tervezték, hogy ne forduljon elő repedések és rétegvesztés.