Félvezető lapkahordozó MOCVD berendezésekhez

Biztos lehet benne, hogy gyárunkból vásárol félvezető szelethordozót MOCVD berendezésekhez. A félvezető lapkahordozók a MOCVD-berendezések alapvető alkotóelemei. Félvezető lapkák szállítására és védelmére használják a gyártási folyamat során. A MOCVD berendezésekhez készült félvezető lapkahordozók nagy tisztaságú anyagokból készülnek, és úgy tervezték, hogy a feldolgozás során megőrizzék az ostyák integritását.

Kérdés küldése

termékleírás

félvezető lapkahordozónk MOCVD berendezésekhez a félvezető gyártási folyamat lényeges eleme. Nagy tisztaságú grafitból készült, szilícium-karbid bevonattal CVD-módszerrel, és több lapka befogadására tervezték. A hordozó számos előnnyel jár, beleértve a jobb hozamot, a nagyobb termelékenységet, a csökkentett szennyeződést, a nagyobb biztonságot és a költséghatékonyságot. Ha megbízható és kiváló minőségű félvezető ostyahordozót keres MOCVD berendezésekhez, termékünk a tökéletes megoldás.
Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni a MOCVD berendezésekhez való félvezető lapkahordozónkról.

A félvezető lapkahordozó paraméterei MOCVD berendezésekhez

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályszerkezet	FCC β fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	μm	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezetőképesség	(W/mK)	300

A SiC bevonatú grafit szuszceptor jellemzői MOCVD-hez

- Kerülje a leválást, és gondoskodjon a bevonatról minden felületen
Magas hőmérsékletű oxidációállóság: Stabil magas hőmérsékleten 1600°C-ig
Nagy tisztaságú: CVD kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.
Korrózióállóság: nagy keménység, sűrű felület és finom részecskék.
Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
- A legjobb lamináris gázáramlási minta elérése
- Garantálja a termikus profil egyenletességét
- Kerülje el a szennyeződést vagy a szennyeződések diffúzióját