SiC bevonatú grafit szubsztrát ostyahordozók MOCVD-hez

Biztos lehet benne, hogy gyárunkból vásárol SiC bevonatú grafit szubsztrát ostyahordozókat MOCVD-hez. A Semicorexnél a SiC bevonatú grafit szuszceptor nagyméretű gyártója és szállítója vagyunk Kínában. Termékünk jó árelőnnyel rendelkezik, és számos európai és amerikai piacot lefed. Arra törekszünk, hogy ügyfeleink speciális igényeiknek megfelelő, minőségi termékeket kínáljunk. SiC bevonatú grafit szubsztrát ostyahordozónk MOCVD-hez kiváló választás azok számára, akik nagy teljesítményű hordozót keresnek félvezető gyártási folyamatukhoz.

Kérdés küldése

termékleírás

A SiC Coating Graphite Substrate Wafer Carrier for MOCVD kulcsfontosságú szerepet játszik a félvezető gyártási folyamatban. Termékünk rendkívül stabil, még extrém körülmények között is, így kiváló választás kiváló minőségű ostyák gyártásához.
SiC bevonatú grafit szubsztrát szelethordozóink MOCVD-hez kiválóak. Sűrű felülete és finom részecskéi növelik a korrózióállóságát, így ellenállnak a savnak, lúgnak, sónak és szerves reagenseknek. A hordozó egyenletes hőprofilt biztosít, és garantálja a legjobb lamináris gázáramlási mintát, megakadályozva a szennyeződések vagy szennyeződések bediffundálását az ostyába.

SiC bevonatú grafit szubsztrát ostyahordozók paraméterei MOCVD-hez

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályszerkezet	FCC β fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	μm	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezetőképesség	(W/mK)	300

A SiC bevonatú grafit szuszceptor jellemzői MOCVD-hez

- Kerülje a leválást, és gondoskodjon a bevonatról minden felületen
Magas hőmérsékletű oxidációállóság: Stabil magas hőmérsékleten 1600°C-ig
Nagy tisztaságú: CVD kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.
Korrózióállóság: nagy keménység, sűrű felület és finom részecskék.
Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
- A legjobb lamináris gázáramlási minta elérése
- Garantálja a termikus profil egyenletességét
- Kerülje el a szennyeződést vagy a szennyeződések diffúzióját