> Termékek > Szilícium-karbid bevonatú

Termékek

új termékek

Kína Szilícium-karbid bevonatú Gyártók, beszállítók, gyár

A SiC bevonat egy vékony réteg a szuszceptorra a kémiai gőzlerakódás (CVD) eljárás révén. A szilícium-karbid anyag számos előnnyel rendelkezik a szilíciummal szemben, beleértve a 10-szeres áttörési elektromos térerőt, a 3-szoros sávközt, amely magas hőmérséklet- és vegyszerállóságot, kiváló kopásállóságot, valamint hővezető képességet biztosít az anyagnak.

A Semicorex személyre szabott szolgáltatást nyújt, segít az innovációban hosszabb élettartamú alkatrészekkel, csökkenti a ciklusidőket és javítja a hozamot.

A SiC bevonat számos egyedi előnnyel rendelkezik

Magas hőmérséklettel szembeni ellenállás: A CVD SiC bevonatú szuszceptor akár 1600 °C-ig is ellenáll a magas hőmérsékletnek anélkül, hogy jelentős hődegradáción menne keresztül.

Vegyi ellenállás: A szilícium-karbid bevonat kiváló ellenállást biztosít számos vegyszerrel szemben, beleértve a savakat, lúgokat és szerves oldószereket.

Kopásállóság: A SiC bevonat kiváló kopásállóságot biztosít az anyagnak, így alkalmas a nagy kopással járó alkalmazásokhoz.

Hővezetőképesség: A CVD SiC bevonat magas hővezető képességet biztosít az anyagnak, így alkalmas magas hőmérsékletű, hatékony hőátadást igénylő alkalmazásokhoz.

Nagy szilárdság és merevség: A szilícium-karbid bevonatú szuszceptor nagy szilárdságot és merevséget biztosít az anyagnak, így alkalmas a nagy mechanikai szilárdságot igénylő alkalmazásokhoz.

A SiC bevonatot különféle alkalmazásokban használják

LED gyártás: A CVD SiC bevonatú szuszceptort különféle LED-típusok, köztük kék és zöld LED, UV LED és mély-UV LED gyártásánál használják, magas hővezető képessége és vegyszerállósága miatt.

PSS rézkarc hordozó

Kék és zöld LED epitaxiális szuszceptor

Mély UV LED epitaxiális szuszceptor

Mobil kommunikáció: A CVD SiC bevonatú szuszceptor a HEMT kulcsfontosságú része a GaN-on-SiC epitaxiális folyamat befejezéséhez.

GaN-on-SiC epitaxiális hordozó

GaN-on-SiC szubsztrát szuszceptor

Félvezető feldolgozás: A CVD SiC bevonatú szuszceptort a félvezetőiparban használják különféle alkalmazásokhoz, beleértve az ostyafeldolgozást és az epitaxiális növekedést.

Hordó vevő

ICP rézkarchordozó

SiC lemez az ICP maratási folyamathoz

Elfogadó a MOCVD-hez

Monokristályos szilícium szuszceptor

Szilícium-karbid epitaxia receptor

SiC bevonatú grafit alkatrészek

Szilícium-karbid bevonat (SiC) grafitból készült, a bevonatot CVD-módszerrel hordják fel bizonyos típusú nagy sűrűségű grafitokra, így a magas hőmérsékletű kemencében 3000 °C felett, inert atmoszférában, 2200 °C-on vákuumban működhet. .

Az anyag különleges tulajdonságai és kis tömege gyors felfűtést, egyenletes hőmérséklet-eloszlást és kiemelkedő vezérlési pontosságot tesz lehetővé.

A Semicorex SiC bevonat anyagadatai

Tipikus tulajdonságok	Egységek	Értékek
Szerkezet		FCC β fázis
Tájolás	töredék (%)	111 előnyben
Térfogatsűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Hőtágulás 100–600 °C (212–1112 °F)	10-6K-1	4.5
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Szemcseméret	μm	2~10
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Hővezetőképesség	(W/mK)	300

Következtetés A CVD SiC bevonatú szuszceptor egy kompozit anyag, amely egyesíti a szuszceptor és a szilícium-karbid tulajdonságait. Ez az anyag egyedülálló tulajdonságokkal rendelkezik, beleértve a magas hőmérséklet- és vegyszerállóságot, kiváló kopásállóságot, magas hővezető képességet, valamint nagy szilárdságot és merevséget. Ezek a tulajdonságok vonzó anyaggá teszik különféle magas hőmérsékletű alkalmazásokhoz, beleértve a félvezető-feldolgozást, vegyi feldolgozást, hőkezelést, napelemgyártást és LED-gyártást.

View as

Epi-SiC receptor

A Semicorex Epi-SiC Susceptor, a részletekre alapos odafigyeléssel megtervezett alkatrész nélkülözhetetlen a legmodernebb félvezető-gyártáshoz, különösen epitaxiális alkalmazásokban. Az Epi-SiC Susceptor tervezése, amely megtestesíti a precizitást és az innovációt, támogatja a félvezető anyagok epitaxiális lerakódását a lapkákon, így kivételes hatékonyságot és megbízhatóságot biztosít a teljesítményben. A Semicorex elkötelezettsége a piacvezető minőség iránt, valamint a versenyképes fiskális megfontolások megerősíti azon törekvésünket, hogy partnerkapcsolatokat alakítsunk ki a félvezető lapkák szállítására vonatkozó követelmények teljesítése érdekében.

Olvass tovább Kérdés küldése

Vevő lemez

A Semicorex Susceptor Disc egy nélkülözhetetlen eszköz a fém-szerves kémiai gőzleválasztásban (MOCVD), amelyet kifejezetten félvezető lapkák alátámasztására és melegítésére terveztek az epitaxiális réteglerakódás kritikus folyamata során. A Susceptor Disc fontos szerepet játszik a félvezető eszközök gyártásában, ahol a precíz rétegnövekedés a legfontosabb. A Semicorex elkötelezettsége a piacvezető minőség iránt, valamint a versenyképes fiskális megfontolások megerősíti azon törekvésünket, hogy partnerkapcsolatokat alakítsunk ki a félvezető lapkák szállítására vonatkozó követelmények teljesítése érdekében.

Olvass tovább Kérdés küldése

Epitaxiális egykristályos Si-lemez

az epitaxiális egykristályos Si Plate a kifinomultság, a tartósság és a megbízhatóság csúcsát foglalja magában a grafit epitaxiával és szeletkezeléssel kapcsolatos alkalmazásokhoz. Sűrűségével, síkszerűségével és hőkezelési képességeivel tűnik ki, így optimális választás a szigorú üzemi feltételekhez. A Semicorex elkötelezettsége a piacvezető minőség iránt, valamint a versenyképes fiskális megfontolások megerősíti azon törekvésünket, hogy partnerkapcsolatokat alakítsunk ki a félvezető lapkák szállítására vonatkozó követelmények teljesítése érdekében.

Olvass tovább Kérdés küldése

Egykristály szilícium Epi szuszceptor

Az Single-crystal Silicon Epi Susceptor a Si-GaN epitaxiás folyamatokhoz tervezett alapvető komponens, amely személyre szabott specifikációkhoz és preferenciákhoz szabható, így olyan testreszabott megoldást kínál, amely tökéletesen illeszkedik az adott követelményekhez. Legyen szó a méretek módosításáról vagy a bevonat vastagságának módosításáról, képesek vagyunk olyan terméket tervezni és szállítani, amely alkalmazkodik a különféle folyamatparaméterekhez, ezáltal optimalizálva a teljesítményt a célzott alkalmazásokhoz. A Semicorex elkötelezettsége a piacvezető minőség iránt, valamint a versenyképes fiskális megfontolások megerősíti azon törekvésünket, hogy partnerkapcsolatokat alakítsunk ki a félvezető lapkák szállítására vonatkozó követelmények teljesítése érdekében.

Olvass tovább Kérdés küldése

SiC epitaxia receptor

A precíziós és megbízható tervezésű SiC Epitaxy Susceptor nagy korrózióállósággal, magas hővezető képességgel, hősokkállósággal és nagy kémiai stabilitással rendelkezik, ami lehetővé teszi, hogy hatékonyan működjön epitaxiális atmoszférában. Ezért a SiC Epitaxy Susceptor magnak számít. a MOCVD berendezések döntő eleme. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, ezért várjuk, hogy hosszú távú partnere lehessünk Kínában.

Olvass tovább Kérdés küldése

Szilícium-karbid csónaktartó

A Semicorex szilícium-karbid csónaktartó SiC anyagból készült speciális termék, amelyet aprólékosan olyan iparágakban való alkalmazásokhoz terveztek, mint a fotovoltaik, az elektronika és a félvezetők. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Olvass tovább Kérdés küldése

<...10 11 12 13 14...29 >

A Semicorex sok éve gyárt Szilícium-karbid bevonatú terméket, és az egyik professzionális Szilícium-karbid bevonatú gyártó és beszállító Kínában. Miután megvásárolta fejlett és tartós termékeinket, amelyek tömeges csomagolást biztosítanak, garantáljuk a nagy mennyiség gyors szállítását. Az évek során személyre szabott szolgáltatást nyújtottunk ügyfeleinknek. Vásárlóink elégedettek termékeinkkel és kiváló szolgáltatásainkkal. Őszintén várjuk, hogy megbízható, hosszú távú üzleti partnere lehessünk! Üdvözöljük, hogy vásároljon termékeket gyárunkból.