itthon > Termékek > Szilícium-karbid bevonatú > MOCVD elfogadó > Szuszceptorok MOCVD reaktorokhoz
Szuszceptorok MOCVD reaktorokhoz

Szuszceptorok MOCVD reaktorokhoz

A Semicorex Susceptors for MOCVD Reactors kiváló minőségű termékek, amelyeket a félvezetőiparban használnak különféle alkalmazásokhoz, például szilícium-karbid rétegekhez és epitaxiás félvezetőkhöz. Termékünk fogaskerék vagy gyűrű alakban kapható, és magas hőmérsékletű oxidációs ellenállás elérésére tervezték, így akár 1600°C hőmérsékleten is stabil.

Kérdés küldése

termékleírás

A MOCVD reaktorokhoz készült szuszceptoraink CVD kémiai gőzleválasztással készülnek magas hőmérsékletű klórozási körülmények között, biztosítva a nagy tisztaságot. A termék felülete sűrű, finom részecskékkel és nagy keménységgel rendelkezik, így korrózióálló savval, lúggal, sóval és szerves reagensekkel szemben.
A MOCVD reaktorokhoz készült szuszceptorainkat úgy tervezték, hogy biztosítsák a bevonatot minden felületen, elkerülve a leválást, és a legjobb lamináris gázáramlási mintát érjék el. A termék garantálja a termikus profil egyenletességét, és megakadályozza a szennyeződéseket vagy a szennyeződések szétszóródását a folyamat során, így biztosítva a kiváló minőségű eredményeket.
A Semicorexnél az ügyfelek elégedettségét helyezzük előtérbe, és költséghatékony megoldásokat kínálunk. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk, kiváló minőségű termékeket szállítva és kivételes ügyfélszolgálattal.


A MOCVD reaktorok szuszceptorainak paraméterei

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi

SiC-CVD tulajdonságai

Kristályszerkezet

FCC β fázis

Sűrűség

g/cm³

3.21

Keménység

Vickers keménység

2500

Szemcseméret

μm

2~10

Kémiai tisztaság

%

99.99995

Hőkapacitás

J kg-1 K-1

640

Szublimációs hőmérséklet

2700

Felexurális Erő

MPa (RT 4 pontos)

415

Young's Modulus

Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)

430

Hőtágulás (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Hővezetőképesség

(W/mK)

300


A SiC bevonatú grafit szuszceptor jellemzői MOCVD-hez

- Kerülje a leválást, és gondoskodjon a bevonatról minden felületen
Magas hőmérsékletű oxidációállóság: Stabil magas hőmérsékleten 1600°C-ig
Nagy tisztaságú: CVD kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.
Korrózióállóság: nagy keménység, sűrű felület és finom részecskék.
Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
- A legjobb lamináris gázáramlási minta elérése
- Garantálja a hőprofil egyenletességét
- Kerülje el a szennyeződést vagy a szennyeződések diffúzióját




Hot Tags: Szuszceptorok MOCVD reaktorokhoz, Kína, gyártók, beszállítók, gyári, testreszabott, tömeges, fejlett, tartós
Kapcsolódó kategória
Kérdés küldése
Kérdését az alábbi űrlapon adja meg. 24 órán belül válaszolunk.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept