itthon > Termékek > Szilícium-karbid bevonatú > MOCVD szuszceptor > Szuszceptorok MOCVD reaktorokhoz
Szuszceptorok MOCVD reaktorokhoz

Szuszceptorok MOCVD reaktorokhoz

A Semicorex Susceptors for MOCVD Reactors kiváló minőségű termékek, amelyeket a félvezetőiparban használnak különféle alkalmazásokhoz, például szilícium-karbid rétegekhez és epitaxiás félvezetőkhöz. Termékünk fogaskerék vagy gyűrű alakban kapható, és magas hőmérsékletű oxidációállóság elérésére tervezték, így akár 1600°C hőmérsékleten is stabil.

Kérdés küldése

termékleírás

A MOCVD reaktorokhoz készült szuszceptoraink CVD kémiai gőzleválasztással készülnek magas hőmérsékletű klórozási körülmények között, biztosítva a nagy tisztaságot. A termék felülete sűrű, finom részecskéket és nagy keménységet tartalmaz, így korrózióálló savval, lúggal, sóval és szerves reagensekkel szemben.
A MOCVD reaktorokhoz készült szuszceptorainkat úgy tervezték, hogy biztosítsák a bevonatot minden felületen, elkerülve a leválást, és a legjobb lamináris gázáramlási mintát érjék el. A termék garantálja a termikus profil egyenletességét, és megakadályozza a szennyeződéseket vagy a szennyeződések szétszóródását a folyamat során, így biztosítva a kiváló minőségű eredményeket.
A Semicorexnél az ügyfelek elégedettségét helyezzük előtérbe, és költséghatékony megoldásokat kínálunk. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk, kiváló minőségű termékeket szállítva és kivételes ügyfélszolgálattal.


A MOCVD reaktorok szuszceptorainak paraméterei

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi

SiC-CVD tulajdonságai

Kristályos szerkezet

FCC β fázis

Sűrűség

g/cm³

3.21

Keménység

Vickers keménység

2500

Szemcseméret

μm

2~10

Kémiai tisztaság

%

99.99995

Hőkapacitás

J·kg-1 ·K-1

640

Szublimációs hőmérséklet

2700

Felexurális Erő

MPa (RT 4 pontos)

415

Young's Modulus

Gpa (4 pt kanyar, 1300º)

430

Hőtágulás (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Hővezető

(W/mK)

300


A SiC bevonatú grafit szuszceptor jellemzői MOCVD-hez

- Kerülje a leválást, és gondoskodjon a bevonatról minden felületen
Magas hőmérsékletű oxidációállóság: Stabil magas hőmérsékleten 1600°C-ig
Nagy tisztaságú: CVD kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.
Korrózióállóság: nagy keménység, sűrű felület és finom részecskék.
Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
- A legjobb lamináris gázáramlási minta elérése
- Garantálja a termikus profil egyenletességét
- Kerülje el a szennyeződést vagy a szennyeződések diffúzióját




Hot Tags: Szuszceptorok MOCVD reaktorokhoz, Kína, gyártók, beszállítók, gyári, testreszabott, tömeges, fejlett, tartós

Kapcsolódó kategória

Kérdés küldése

Kérdését az alábbi űrlapon adja meg. 24 órán belül válaszolunk.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept