Az epitaxiális növekedési rendszer szerves részét képező SiC bevonatú Semicorex Wafer Carriers kivételes tisztaságával, szélsőséges hőmérsékletekkel szembeni ellenálló képességével és robusztus tömítési tulajdonságaival tűnik ki, és tálcaként szolgál, amely nélkülözhetetlen a félvezető lapkák megtámasztásához és felmelegítéséhez Az epitaxiális réteglerakódás kritikus fázisa, ezáltal optimalizálva a MOCVD folyamat általános teljesítményét. Mi, a Semicorex elkötelezett a SiC bevonattal ellátott, nagy teljesítményű ostyahordozók gyártásával és szállításával, amelyek a minőséget a költséghatékonysággal ötvözik.
A SiC bevonattal ellátott Semicorex ostyahordozók kiemelkedő hőstabilitást és vezetőképességet mutatnak, ami elengedhetetlen az állandó hőmérséklet fenntartásához a kémiai gőzleválasztási (CVD) folyamatok során. Ez biztosítja az egyenletes hőeloszlást az aljzaton, ami kritikus fontosságú a kiváló minőségű vékonyréteg- és bevonatjellemzők eléréséhez.
A SiC bevonattal ellátott ostyahordozók a szigorú szabványok szerint készülnek, egyenletes vastagságot és felületi simaságot biztosítva. Ez a pontosság létfontosságú az egyenletes lerakódási sebesség és a fóliatulajdonságok eléréséhez több lapka között.
A SiC bevonat áthatolhatatlan gátként működik, megakadályozva a szennyeződések diffúzióját a szuszceptorból az ostyába. Ez minimálisra csökkenti a szennyeződés kockázatát, ami kritikus fontosságú a nagy tisztaságú félvezető eszközök előállításához. A SiC bevonattal ellátott Semicorex Wafer Carriers tartóssága csökkenti a szuszceptor cseréjének gyakoriságát, ami alacsonyabb karbantartási költségeket és minimális állásidőt eredményez a félvezető gyártási műveletekben.
A SiC bevonattal ellátott Semicorex ostyahordozók testreszabhatók, hogy megfeleljenek a specifikus folyamatkövetelményeknek, beleértve a méret, az alak és a bevonat vastagságának eltéréseit. Ez a rugalmasság lehetővé teszi a szuszceptor optimalizálását, hogy megfeleljen a különböző félvezető-gyártási folyamatok egyedi igényeinek. A testreszabási lehetőségek lehetővé teszik a speciális alkalmazásokhoz, például nagy volumenű gyártáshoz vagy kutatás-fejlesztéshez szabott szuszceptor-konstrukciók kifejlesztését, így biztosítva az optimális teljesítményt az adott felhasználási esetekben.